%0 Journal Article
%T Development of maskless electron-beam lithography using nc-Si electron-emitter array
%A Kojima, A.
%A Ikegami, N.
%A Yoshida, T.
%A Miyaguchi, H.
%A Muroyama, M.
%A Nishino, H.
%A Yoshida, S.
%A Sugata, M.
%A Cakir, S.
%A Ohyi, H.
%A Koshida, N.
%A Esashi, M.
%J Proceedings of SPIE
%V 8680
%P 86800I-86800I-9
%@ 0277-786X
%D 2013-03-26
%I SPIE
%~ DeepDyve