%0 Journal Article
%T Sub-20nm hybrid lithography using optical, pitch-division, and e-beam
%A Belledent, J.
%A Smayling, M.
%A Pradelles, J.
%A Pimenta-Barros, P.
%A Barnola, S.
%A Mage, L.
%A Icard, B.
%A Lapeyre, C.
%A Soulan, S.
%A Pain, L.
%J Proceedings of SPIE
%V 8323
%N 1
%P 83230F-83230F-10
%@ 0277-786X
%D 2012-02-13
%I SPIE
%~ DeepDyve